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汉之光华专利情报分析系统
《汉之光华专利情报分析系统2.0》功能介绍
竞争对手技术保护策略分析
竞争对手技术构成分析工具
竞争对手发明者排名工具
竞争对手人力投入分析工具
竞争对手区域保护策略分析
专利内部管理工具
竞争对手专利技术趋势分析
竞争对手专利矩阵分析
竞争对手专利增长率分析工具
竞争对手技术投入分析工具
竞争对手技术投入分析工具:对不同国际专利分类位置上的人力投入情况进行分析,从中了解到不同企业或个人对该IPC技术的关注程度,使分析者跟踪行业内的技术热点,把握自己的研发方向。该工具以专利专题数据库信息为依据,通过对IPC分类位置上申请人及发明人的统计而实现,该工具适用于代理机构人员,企业各级技术人员。
图例:
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